사파이어 웨이퍼 세정제 조성물

Cleaning solution composition for sapphire wafer

Abstract

The present invention relates to a cleaning solution composition for a sapphire wafer including an acryl-based polymer compound including one kind selected from a group composed of a polymer of a structure unit represented by chemical formula 1 and salts of the same; an amine-based compound; a chilate compound, an alkali agent, and water. The cleaning solution composition of the present invention is effective for removal of particles like alumina, silica, ceria, zirconia, silicon carbide, and boron carbide and organic pollutants on the surface of a sapphire wafer.
본 발명은 화학식 1로 표시되는 구조단위의 중합체 및 이들의 염으로 이루어진 군에서 선택되는 1종을 포함하는 아크릴계 중합체 화합물; 아민계 화합물; 킬레이트 화합물; 알칼리제; 및 물을 포함하는 사파이어 웨이퍼 세정제 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 세정제 조성물은 사파이어 웨이퍼 표면의 알루미나, 실리카, 세리아, 지르코니아, 탄화규소, 탄화붕소 등과 같은 파티클 및 유기 오염물을 제거하는데 효과적이다.

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